Auto500 用于DC和RF濺射
Auto500可被裝配為研究型濺射系統,設備可安裝*多3個濺射源同時允許用戶選擇DC和RF電源。工藝氣體和工裝夾具可選為工藝提供了*大便利.

Auto500多工藝應用

Auto500 可適應多種應用. FL500大型腔室可容納EB3電子束蒸發源,濺射源和熱阻蒸發源,使用戶在不破壞真空的環境下運用不同的技術進行多次膜沉積. 系統還可提供輝光放電清洗和基板加熱以及膜厚監測和控制.

Auto500多功能沉積系統

Auto500是用于研究和預生產的多用途,前裝載的沉積系統. 腔體可容納大尺寸基板,在不損失真空的環境下進行熱阻蒸發,電子束蒸發以及濺射工藝. 真空選件包含擴散泵,渦輪分子泵,干泵及冷凝泵a.

Auto500 用于熱阻蒸發及電子束蒸發

工藝配件

• 400mm 和500mm寬帶水冷裝置的不銹鋼腔室
• 玻璃鐘罩式和玻璃圓筒式腔室
• 單一或多個熱阻蒸發源, 4個熱阻源安裝塔
• 3kW 或 6kW 電子槍
• 固定和選擇工件夾具
• 高溫基板加熱系統
• 蒸發源和基板擋板
• 輝光放電清洗
• 膜厚監測
• 真空鎖選件

真空系統
600l/s 擴散泵
500l/s 渦輪分子泵
450l/s 干泵和渦輪分子泵
1500l/s 冷凝泵
14.3m3/h 油封旋片泵和液氮冷井.

**控制

觸屏式PLC 真空系統控制
自動高真空工藝閥門保護
完善的**互鎖
Auto500 CE認證